第81章 一条新的路

  夜色深沉，京都大学数学研究所的办公楼里，却有一间办公室亮著刺眼的白光。

  佐藤健一郎瘫坐在皮质办公椅上，领带歪斜，头髮凌乱，金丝眼镜被隨意扔在桌上，镜片上倒映著电脑屏幕上密密麻麻的邮件提醒。

  每一封新邮件的提示音，都像是一把小锤子，敲打在他紧绷的神经上。

  从傍晚开始，他的电子邮箱就像被洪水衝垮的堤坝，彻底失控了。

  第一波是合作企业的质询函。

  东京精密仪器株式会社，他们与佐藤合作开发基於“正则化框架”的光刻误差修正软体，已经投入了数十亿日元的研发经费。邮件措辞冰冷：

  “……请於24小时內提供贵方论文中所有实验数据的原始文件及完整推导过程，以供我司技术团队验证。若无法证明论文结论的可靠性，我司將保留追究法律责任及索赔的权利。”

  三菱材料科学实验室，他们根据佐藤的理论改进了euv光刻胶的配方。邮件更直接：

  “……贵方发表於《光刻科学与技术》2019年第3期的论文中，关於光刻胶热响应係数的数据（表3，第2列）与我司实际测量结果偏差超过30%。请立即解释。

  此外，我司已暂停所有基於贵方理论的后续研发项目。”

  住友化学计算光学部、日本电气玻璃研究所、索尼半导体解决方案公司……

  一封封邮件接踵而至，语气一封比一封严厉，要求一份比一份具体。

  佐藤的手开始发抖。

  他试图点开其中一封邮件详细查看，手指却不受控制地滑过触控板，怎么也点不中那个小小的標题。

  第二波是期刊编辑部的问询。