第982章 陈总，你们准备好了吗？
新的故事已经开始。
⚡ 自动翻页
开启后阅读到底自动进入下一章
⚡ 开启自动翻页更爽
看到章尾自动进入下一章，追书不用一直点。
  “第三，计算光刻（opc）的算力与算法地狱。
  duv+多重曝光，使得opc的计算复杂度和数据量呈指数级增长。
  我们需要更智能、更快速、更精准的opc解决方案，这是確保设计图形能被正確『印刷』到硅片上的生命线！”
  “第四，基於大数据的智能良率预测与优化。
  n+1初始良率註定低迷。
  我们需要eda工具能在设计阶段，就结合工艺数据，精准预测良率瓶颈，指导设计优化，这是提升良率、控制成本的关键。
  我们更需要eda工具不断优化、叠代和更新改良。”
  他一口气说完，目光灼灼地盯住陈默：
  “陈总，这不是请求，这是n+1良品率爬坡战役的前提条件。
  您那边的工具链，必须跑在工艺成熟的前面，必须能支撑更复杂的n+1、n+2设计规则和模型。
  你们，准备好了吗？”
  面对这沉甸甸的压力，陈默嘴角反而勾起一丝弧度。
  终於轮到自己装逼了吗？
  他没有立刻辩解，而是不疾不徐地操作电脑，將投影切换至一幅更为精密、动態的技术架构图。
  图上，三条代表不同技术路径的光流：